铣削(3轴、4轴、5轴)、车削(数车、车铣复合)
及表面处理
SLA、SLS、MJF、SLM等多种工艺;
最快24小时交货
手板快速打样、小批量真空复模、产品级
表面处理工艺
激光切割、钣金折弯、焊接等,以及表面处理
单色注塑、双色注塑、嵌入成型,最小起订量
500件起
常见的机加工半导体零件包括各种支架、夹具、定位器、探针、掩模版、腔体和盖板等。这些零件通常需要高精度、高洁净度以及特定材料特性的加工要求。以下是一些常见的半导体机加工零件及其加工特点:
1. 晶圆夹具(Wafer Chuck):
加工特点:需要高精度平面度和表面光洁度,以确保晶圆在加工过程中保持稳定。通常使用CNC加工和精密磨削技术。
材料:常用材料包括铝合金、不锈钢和陶瓷。
2. 掩模版(Photomask):
加工特点:图案的高精度和清晰度至关重要,通常通过光刻和刻蚀工艺制造。需要极高的洁净度。
材料:石英玻璃和镀铬薄膜。
3. 探针卡(Probe Card):
加工特点:要求高精度微小结构和良好的导电性。常采用微细加工技术,如MEMS加工。
材料:硅、陶瓷和贵金属(如金、铂)。
4. 退火炉组件(Annealing Furnace Components):
加工特点:需要耐高温和化学腐蚀,通常采用精密焊接和高温处理工艺。
材料:石英、陶瓷和高温合金。
5. 刻蚀设备零件(Etching Equipment Parts):
加工特点:耐化学腐蚀和高精度要求,涉及复杂的几何形状和微细结构加工。
材料:氟塑料(如PTFE)、不锈钢和陶瓷。
6. 镀膜设备组件(Deposition Equipment Components):
加工特点:高真空环境下使用,要求高表面光洁度和低杂质含量。
材料:不锈钢、铝合金和钛。
7. 传输臂(Transfer Arm):
加工特点:轻量化设计和高精度运动控制,通常需要CNC加工和装配调试。
材料:铝合金和碳纤维复合材料。
8. 封装模具(Packaging Mold):
加工特点:复杂的几何形状和高硬度要求,通常采用精密模具加工和热处理工艺。
材料:硬质合金和工具钢。
9. 清洗槽(Cleaning Bath):
加工特点:耐化学腐蚀和高洁净度要求,通常采用精密焊接和抛光处理。
材料:不锈钢和高纯度石英。
这些零件的加工不仅要求高精度和高洁净度,还需要特殊的材料选择和表面处理技术,以满足半导体制造环境的苛刻要求。每个零件的加工过程都需要严格控制,以确保其在半导体生产过程中的可靠性和性能稳定。